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光刻掩模版

光刻掩模版(Mask Reticle),是微纳加工技术中光刻工艺中使用的图形母版。由不透光的遮光薄膜和透光的图形组成。主要应用在如集成电路,印刷电路板,平板显示器,微纳光学元件等。

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基板材料  

苏打玻璃、石英

线宽

μm

线宽误差

0.15 μm

基板尺寸

  3” / 4” / 5” / 6” / 8” / 10”  


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光刻掩模版
光刻掩模版(Mask Reticle),是微纳加工技术中光刻工艺中使用的图形母版。由不透光的遮光薄膜和透光的图形组成。主要应用在如集成电路,印刷电路板,平板显示器,微纳光学元件等。
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