光刻掩模版（Mask Reticle），是微纳加工技术中光刻工艺中使用的图形母版。由不透光的遮光薄膜和透光的图形组成。主要应用在如集成电路，印刷电路板，平板显示器，微纳光学元件等。
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产品详情
基板材料
苏打玻璃、石英
线宽
1 μm
线宽误差
0.15 μm
基板尺寸
3” / 4” / 5” / 6” / 8” / 10”
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