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膜厚测量仪

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采用光谱干涉原理,利用膜结构上下表面反射形成的干涉光谱分布,实现对膜结构的高精度测量,具有非接触、无破坏、快速等特点。1. 测量范围:5um-250um。2. 准确度:0.4%。3. 使用光源:卤素灯。4. 入射角度:90°。5. 测试材料:光刻胶等透明或半透明薄膜材料。6. 光斑尺寸:20um-3mm。7. 测量时间:100ms-4ms。8. 通信接口:USB2.0


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采用光谱干涉原理,利用膜结构上下表面反射形成的干涉光谱分布,实现对膜结构的高精度测量,具有非接触、无破坏、快速等特点。1. 测量范围:5um-250um。2. 准确度:0.4%。3. 使用光源:卤素灯。4. 入射角度:90°。5. 测试材料:光刻胶等透明或半透明薄膜材料。6. 光斑尺寸:20um-3mm。7. 测量时间:100ms-4ms。8. 通信接口:USB2.0


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