显影液的用途和参数问题——苏州深硅刻蚀

在半导体行业，会用到一种叫做显影液的液体。显影液指的是洗相片时适用的化学药剂，主要成分有硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银、硼酸、对苯二酚等。有毒，不可直接接触肌肤，会严重腐蚀。

显影液的主要成分是硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银、硼酸、对苯二酚等，不仅可以用在半导体领域还有其他的用途。

主要用途：

银盐胶片显影用的药液称显影液。

用于黑白胶片显影的显影液称黑白显影液，用于彩色胶片显影的称彩色显影液。

显影液的主要成分是显影剂。为了完善性能，通常还加一些其他成分，诸如促进显影的促进剂，防止显影剂氧化的保护剂，防灰雾生成的灰雾抑制剂和防灰雾剂等。

通过对各组分不同用量的调配可以得到不同性能的显影液，如微粒显影液、高反差显影液等。

工业上说的显影剂，是针对半导体晶片而言。系列有显影剂、光刻胶等。

参数问题：

显影液的浓度是指显影剂的相对含量，即NaOH、Na2SiO3总含量。市场上销售的显影液多是浓缩型液体，使用时需要按比例稀释，显影液的浓度多以显影液的稀释比来表示。在其他条件不变的前提下，显影速度与显影液浓度成正比关系，即显影液浓度越大，显影速度越快。 当温度22℃，显影时间为60秒时，PD型显影液浓度对PS版性能的影响见表1（略）。从表中数据可看出，以3级干净为准的曝光量，PD型显影液浓度以1∶6为***。 当显影液浓度过大时，往往因显影速度过快而使显影操作不易控制；特别是它对图文基础的腐蚀性增强，容易造成 网点 缩小、残损、亮调小网点丢失及减薄涂层，从而造成耐印力下降等弊病；同时空白部位的氧化膜和封孔层也会受到腐蚀和破坏，版面出现发白现象，使印版的亲水性和耐磨性变差。显影液浓度大，还易有结晶析出。 当显影液的浓度偏低时，碱性弱，显影速度慢，易出现显影不净、版面起脏、暗调小白点糊死等现象。

编辑：www.szjtnano.com   苏州深硅刻蚀